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【訂正公告】高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工

発注: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

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案件情報

【案件概要】

国立研究開発法人産業技術総合研究所が実施する高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工業務の訂正公告。本公告は令和8年4月14日の原公告内容を修正するもの。対象拠点はつくばセンター・東京本部。

【業務内容】

- 高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工

【主要な訂正内容】

- 納入期限：令和8年11月30日 → 令和9年2月1…

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